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電化學沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進展,但仍存在很多限制因素,如電源設備投資大,氧化電流大,氧化時間較難控制等。并詳細研究了電解工藝參數對膜層性能的影響,同時通過SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結構。 研究工作在電化學沉積陶瓷膜基礎上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設備、自動控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動控制及生產性進一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質,并配以成膜促進劑和成膜添加劑,組成復合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對其進行陽極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細研究了該工藝的陽極氧化特征、電解液組分以及工藝參數對膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。
連鑄連軋工藝國內很少有人研究,應用方面基本上是一個空白。熱軋工藝近年來之所以能得到迅速發(fā)展,除上述因素外,主要是由于鑄軋工藝生產的材料范圍較窄、產品性能差、產量低等缺陷造成的。新工藝在保留鑄軋工藝優(yōu)點的同時,克服了鑄軋工藝的許多缺陷,它加大了鑄軋機冷卻區(qū)域的長度,了冷卻強度,使固液兩相線溫差大于45℃的鋁合金得以生產,擴大了材料的生產范圍。 新工藝生產的鑄坯厚度大于12mm,在鋁金屬再結晶溫度范圍內,以大于65%的加工量進行連續(xù)軋制,由此而生產出的產品晶粒已破碎,了鑄造組織,使再結晶晶粒較為均勻,產品的性能得到了極大的。新工藝較鑄軋工藝:鑄坯增厚1.5一2.5倍,速度1.5一3.0倍,綜合產能3一5倍.圖3以年產三十萬噸的鋁加工廠為例,由鋁液直接生產2m寬、l一2mm厚的熱軋板坯,比較了各種工藝生產1kg鋁板所消耗的電能。 從中可以著到,新工藝在鑄軋工藝的基礎上增加占61%的熱軋能耗,但省掉79%的冷軋能耗,與鑄軋工藝相比其綜合能耗降低了18%,下面以生產1.5一3mm的鋁裝飾板為例,對新、老生產工藝作進一步的分析:鋁裝飾板通常采用IXXX系純鋁材料,部分也有采用3XXX系鋁合金材料的。 老生產工藝基本上采用7min厚的熱軋或鑄軋板,經3一4個冷軋道次軋制到成品。新工藝可直接由鑄軋板經2連軋將其加工到成品厚度,再經冷軋1個道次的平整或由精整設備矯直、拋光以板材的表面質量。上表對鋁裝飾板3種生產工藝的加工成本進行了比較,從中可以看出采用新工藝生產鋁裝飾板材具有很大的價格優(yōu)勢,同時也表明了熱軋工藝生產普通鋁板在價格上沒有競爭力,它只適合生產高端優(yōu)質板材。
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鋁卷廠家生產的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產品是計算機硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質了全用戶的信賴,不但占有的國內市場,而且市場的占有率高達60%。 鋁卷軋制廠生產磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強的NiP薄膜,在上了廣泛的應用。它有很強的抗沖壓力,在個人計算機與計算機磁盤中有著大量的應用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應用的那天起至今仍在硬磁盤領域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應高速;材料成本也低。
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