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電化學沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進展,但仍存在很多限制因素,如電源設備投資大,氧化電流大,氧化時間較難控制等。并詳細研究了電解工藝參數(shù)對膜層性能的影響,同時通過SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結構。 研究工作在電化學沉積陶瓷膜基礎上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設備、自動控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動控制及生產性進一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質,并配以成膜促進劑和成膜添加劑,組成復合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對其進行陽極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細研究了該工藝的陽極氧化特征、電解液組分以及工藝參數(shù)對膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。
產品范圍為:1XXX,3XXX,5XXX,7XXX,8XXX系鋁及鋁合金.熱軋產品范圍廣,質Iq,好,產量大。全由熱軋生產的鋁板帶坯料占總產量的65%以上.但熱軋生產線投資大,一條生產線投資在1.5一20億元,這在一定程度上限制了熱軋工藝的發(fā)展。 鋁板帶加工的歷史可以追溯到1825年,經過近200年的發(fā)展,形成了今天的熱軋、鑄軋和連鑄連軋生產工藝.本文簡述了的鋁板帶生產工藝,在鑄軋工藝的基礎上提出了一種新的工藝路線,并對各種工藝進行了分析比較,論述了新工藝的優(yōu)點。 本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。我們立即。并且在此:本所有頁面上的化用詞與功能性用詞全部失效,不做賠付理由;僅是為了給客戶提供更多相關介紹,不存在不良動機,希望各位消費者理解。 鋁卷鋁板的鑄軋工藝鑄軋工藝是將金屬鋁液直接引人兩個內部水冷卻的軋輥間隙,結晶、凝固、變形后從軋輥的另一邊引出帶坯的方法。它將鑄造和軋制等一系列復雜的生產工藝融為一體,極大的簡化了熱軋生產工藝,為鋁卷鋁板生產開辟了一條新的途徑。
鋁卷廠家生產的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產品是計算機硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質了全用戶的信賴,不但占有的國內市場,而且市場的占有率高達60%。 鋁卷軋制廠生產磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強的NiP薄膜,在上了廣泛的應用。它有很強的抗沖壓力,在個人計算機與計算機磁盤中有著大量的應用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應用的那天起至今仍在硬磁盤領域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應高速;材料成本也低。
硬質陽極氧化是一種鋁卷鋁板及其合金特殊的陽極氧化法,有的也稱厚膜陽極氧化,是20世紀50年代前后的重要的功能氧化工藝之一。硬質膜的硬度較高,在純鋁上所得的硬度可以達到1000HV以上,超過硬鉻的硬度。早期的硬質陽極氧化一般在低溫低濃度和強制攪拌方式進行,這樣條件下生成的氧化膜在電解液中溶解較慢,所得的膜層厚度就比較厚,但膜層生長速度慢,生產成本高,且對鍛鋁、高硅、高銅鋁合金等特殊鋁材不適用。 目前對于硬質氧化的改進非?;钴S,主要于兩個方面。一是加入添加劑:另外則為改變的直流施壓方式。加入添加劑主要是為了降低電解液對氧化膜層的溶解速度和允許溫度范圍。有機梭酸,如、乳酸、酒石酸、磺基水楊酸等為常用的硬質氧化添加劑;還有一些特殊的添加劑如金屬鹽、氟化鈣、粗蔥、木質素等。 這些添加劑的加入,能改變陽極氧化過程中化學、電化學行為,降低膜層的溶解速度和孔隙率,并可使氧化溫度到5-20℃,有的甚至可以到40℃.在有關硬質陽極氧化的研究中,電源波形和電源設備的研究是為活躍的一個領域,從直流、交直流且加、脈沖電流一直到交流都開展了大量的研究。 這些工藝大都為了改善高合金成分材料的陽極氧化,燒穿或工作溫度,膜層的硬度、厚度或耐磨性等。脈沖氧化適合一些難氧化的鋁合金的硬質氧化,在已經得到推廣.脈沖可以實現(xiàn)大電流密度快速硬質陽極氧化,成膜速率可達1.5um/min。
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