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鋁板廠家的鋁合金熱軋方法鋁板及鋁合金的熱軋溫度為300一600℃。在高溫軋制時(shí),軋輥表面與軋件表面可能粘結(jié),即發(fā)生粘鋁現(xiàn)象,降紙鋁板坯品質(zhì)。為防止此現(xiàn)象,以及為降低軋輥溫度與控制輥形,采用含有可溶性油的水即乳液作軋制液,其濃度為4%一5%。 乳液壓力為(5一x104Pa,溫度為60℃,乳液箱容量為36x104L,每2一3月更換一次,每周加人一定量的新乳液。為防止鋁及其他氧化物聚積于輥面上,設(shè)有清輥器,其規(guī)格為4380mm/305mmx3800mm,細(xì)尼龍絲,轉(zhuǎn)速為1500r/min。 包括機(jī)架輥道在內(nèi)的全部輥道均為雙錐形,實(shí)心。主電機(jī)安于車(chē)間內(nèi),從而省去了主電室,節(jié)省了投資,且方便。粗軋機(jī)由I人操作,操縱手可通過(guò)操縱室內(nèi)的電視屏幕觀察軋機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)情況。錠坯由粗軋機(jī)軋至20一60mm,然后送精軋機(jī)列至2一12mm,,3004合金的熱粗軋速度為120m/min,工業(yè)純鋁及5052合金的為150m/min,其他合金的為180m/min。 4機(jī)架中725mm/1530mmx2900mm精軋機(jī)列由4臺(tái)各3000kW的電機(jī)拖動(dòng)。清輥器尺寸為0305mmx2800mm,在轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí),還可作25mm的軸向運(yùn)動(dòng),轉(zhuǎn)速為600r/min。帶卷由打捆機(jī)自動(dòng)打捆,并用氫弧焊點(diǎn)焊,以防開(kāi)卷和松層。精軋乳液濃度為05%一12%,室溫。
用此種方式進(jìn)行氧化時(shí),存在周期性陽(yáng)極和陰極過(guò)程。陽(yáng)極過(guò)程中,鋁合金表面成膜的同時(shí),作為第二相的CuA12被部分溶解:在陰極過(guò)程中,氧化膜停止成長(zhǎng),并在第二相上優(yōu)先發(fā)生析氫和金屬沉積,膜孔內(nèi)積聚的熱量隨之散失。 王慧等利用分階段升壓,在高電流密度高電壓下,制得了較高厚度和硬度的銀白色硬鋁氧化膜,實(shí)驗(yàn)組在對(duì)鋁及其合金電化學(xué)沉積陶瓷膜的研究中,采用有機(jī)梭酸為主鹽,添加一定添加劑組成復(fù)合電解液,在高電壓和電。 但電源設(shè)備投資較大,且電源波形對(duì)膜層性能影響較大,單向方波脈沖電源脈沖須率和占空比對(duì)膜層性能都有影響,氧化過(guò)程峰值電流密度比較大,一般要達(dá)10-18A/dm2,氧化時(shí)間也要嚴(yán)格控制,這些因素都限制了此工藝的進(jìn)一步推廣。 鋁卷鋁板廠家采用以硼酸為主鹽,通過(guò)添加成膜促進(jìn)劑和添加劑組成復(fù)合電解液,在較低的電壓下,對(duì)硬鋁合金進(jìn)行氧化著色一體化處理,能在硬鋁合金表而一層一定厚度和硬度且具有良好外觀的防護(hù)裝飾性氧化膜層,進(jìn)一步拓寬了氧化著色的市場(chǎng)前景。
提出了幾種不同規(guī)格鋁型材的鉻酸陽(yáng)極氧化工藝,并提供了可作為電壓階梯式調(diào)節(jié)依據(jù)的簡(jiǎn)明圖表。鞏運(yùn)蘭等研究了鉻酸濃度對(duì)鋁陽(yáng)極氧化多孔膜阻擋層形成過(guò)程的影響,研究發(fā)現(xiàn)隨著鉻酸濃度的增加,阻擋層形成電流密度增加,形成阻擋層所需的時(shí)間,阻擋層厚度變薄。 還對(duì)鉻酸高壓氧化膜進(jìn)行了研究,鉻酸高壓氧化膜呈多孔狀,且孔徑不規(guī)整,呈樹(shù)枝狀,孔徑和膜厚都取決于濃度。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請(qǐng)告知。我們立即。并且在此:本所有頁(yè)面上的化用詞與功能性用詞全部失效,不做賠付理由;僅是為了給客戶(hù)提供更多相關(guān)介紹,不存在不良動(dòng)機(jī),希望各位消費(fèi)者理解。 陽(yáng)極氧化是鋁板廠家應(yīng)用廣的陽(yáng)極氧化方法,占80%以上,它成本較低,廢水處理也容易。采用電解液得到的氧化膜無(wú)色,膜活性高,能吸附各種染料,著色效果好,經(jīng)過(guò)一定后處理之后能耐蝕性和耐磨性?xún)?yōu)異的膜層。 氧化體系一般采用的是10-20%的純,外加20g/L的A13+.氧化膜的厚度取決于其生長(zhǎng)速度和溶解速度的比率,通常濃度增大溶解能力增強(qiáng),但隨時(shí)間的延長(zhǎng),稀溶液體系的膜的生長(zhǎng)速度反而變慢,在通常條件下,其膜層極限厚度為30-405m。
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