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熱軋軋輥表明要光潔,防_IL粘鋁,乳液溫度為50--60℃,乳液濃度為5-7%,熱終軋厚度為10-12mm。冷軋:冷軋軋制油使用埃索N35或N31加添加劑,冷軋輥硬度為HS90-98,光潔度為RaO.28~0.355m,將剪切后的鋁板橫軋或者順軋至成品厚度。 退火:將沖裁的合格圓片裝入退火爐中進行成品退火,裝爐時考慮熱量循環(huán)良好,各個部位圓片退火后軟硬性能均勻,退火后性能在HB24-27。熱軋生產(chǎn)能力大,生產(chǎn)的鋁合金品種范圍廣,適應所有鋁板帶箔消費領域;熱軋過程的大變形量加工和動態(tài)再結(jié)晶過程的反復發(fā)生有利于鋁板的綜合力學性能,是深沖性能。 但是熱軋工藝復雜、其生產(chǎn)流程周期長、成材率低、成本高等缺點又是不粘鍋生產(chǎn)廠家難以接受的。生產(chǎn)同樣的鋁板,熱軋工藝比鑄軋工藝的生產(chǎn)成本要高出1500-2000元/噸。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。 對于鋁卷生產(chǎn)廠家的鋁合金而言,其屈服強度、抗拉強度和伸長率較鑄態(tài)合金得到明顯的改善,鑄態(tài)組織的晶粒也能夠在塑性變形中得到細化。在變形過程中,鑄態(tài)組織中的宏觀缺陷如氣孔、縮松等能夠得到充分焊合。因此變形對合金的強化主要體現(xiàn)在晶粒的細化和鑄造缺陷的:晶粒的細化:品粒的大小是決定材料力學性能的重要指標。
鋁卷廠家生產(chǎn)的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產(chǎn)品是計算機硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質(zhì)了全用戶的信賴,不但占有的國內(nèi)市場,而且市場的占有率高達60%。 鋁卷軋制廠生產(chǎn)磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產(chǎn)量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強的NiP薄膜,在上了廣泛的應用。它有很強的抗沖壓力,在個人計算機與計算機磁盤中有著大量的應用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應用的那天起至今仍在硬磁盤領域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應高速;材料成本也低。
一般氧化得到的膜層,氧化得到的膜層顯,鉻酸氧化膜則為灰白色等。電壓、電流行為不同,則能改變金屬氧化行為,極大地改變膜層質(zhì)地和外觀,工藝參數(shù)也能因此而改變。在陽極氧化機理研究中,常規(guī)陽極氧化成膜模型,較常見的有三種模型:場致濟解模型,臨界電流密度模型及體積理論。 電化學沉積陶瓷膜過程一般可以分為四個階段,即沉積初始階段、膜層快速增厚階段、膜層增長階段、膜層沉積一濟解平衡階段。認為是在化學、電化學及界面焦耳熱的聯(lián)合作用下,鋁/電解質(zhì)濟液界面形成陰離子凝聚物顆粒在陽極表面沉積、濃縮、高溫脫水和快速冷卻,形成具有特殊結(jié)構(gòu)和性能的非晶態(tài)類陶瓷膜。 總之,鋁及其合金在由成膜土鹽、成膜促進劑、成膜添加劑組成的復合電解液中形成的氧化膜層在成膜過程、膜層結(jié)構(gòu)等方面都與普通陽極氧化存在著差異,同樣與電化學沉積陶瓷股也存在不同。因此,很有必要對鋁及其合金氧化著色成膜過程進行分析和探討。 合金鋁卷廠家選用了灰色氧化著色體系進行研究,綜合常規(guī)陽極氧化和電化學沉積陶瓷膜研究成果,通過分析陽極氧化特性曲線來解析成膜過程,并進一步通過分析鋁金屬在硼酸、促進劑、添加劑等三個不同體系中伏安特性曲線以及形成膜層的顯微結(jié)構(gòu),對復合電解液各組分在成膜過程的作用及成膜機理作初步探討。
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