相變強(qiáng)化可以分為兩類沉淀強(qiáng)化(或稱彌散強(qiáng)化)。在日本進(jìn)口耐磨板中能形成穩(wěn)定化合物的合金元素，在一定條件下，使之生成的第二相化合物從固溶體中沉淀析出，彌散地分布在組織中，從而有效地提高日本進(jìn)口耐磨板的強(qiáng)度，通常析出的合金化合物是碳化物相。

日本進(jìn)口耐磨板表面超硬化處理方法主要有物理氣相沉積（PVD），化學(xué)氣相沉積（CVD），物理化學(xué)氣相沉積（PCVD），擴(kuò)散法金屬碳化物履層技術(shù)，其中，PVD法具有沉積溫度低，工件變形小的優(yōu)點(diǎn)，但由于膜層與基體的結(jié)合力較差，工藝?yán)@鍍性不好，往往難以發(fā)揮超硬化合物膜層的性能優(yōu)勢。

CVD法具有膜基結(jié)合力好，工藝?yán)@鍍性好等突出優(yōu)點(diǎn)，但對于大量的日本進(jìn)口耐磨板而言，其后續(xù)基體硬化處理比較麻煩，稍有不慎，膜層就易破壞。因此其應(yīng)用主要集中在硬質(zhì)合金等材料上。

PCVD法沉積溫度低，膜基結(jié)合力及工藝?yán)@鍍性均較PVD法有較大改進(jìn)，但與擴(kuò)散法相比，膜基結(jié)合力仍有較大差距，此外由于PCVD法仍為等離子體成膜，雖然繞鍍性較PVD法有所改善，但無法。

由擴(kuò)散法金屬碳化物覆層技術(shù)形成的金屬碳化物覆層，與基體形成冶金結(jié)合，具有PVD、PCVD無法比擬的膜基結(jié)合力，因此該技術(shù)真正能夠發(fā)揮超硬膜層的性能優(yōu)勢，此外，該技術(shù)不存在繞鍍性問題，后續(xù)基體硬化處理方便，并可多次重復(fù)處理，使該技術(shù)的適用性更為廣泛。